火侯拿捏精準到位 半導體製程再進化
單片晶圓的均勻性從95%達到99.5%,優於國內半導體廠商要求的99%

火侯拿捏精準到位 半導體製程再進化

您能想像家用微波爐的低頻微波,也能應用於半導體製程嗎?集結交通大學、工研院、國家奈米元件實驗室三方之力的微波退火技術,成功克服多項技術難題,將學理落實於元件製程設備,展現節能與成本優勢,此項技術入圍2017全球百大科技研發獎。

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台積電晶圓良率提升的秘密武器-奈米微粒監控系統
photo credit: ITRI

台積電晶圓良率提升的秘密武器-奈米微粒監控系統

在半導體濕式製程中,晶圓表面的清洗、蝕刻與研磨皆需仰賴特定化學溶液進行,而溶液中奈米粒子的尺寸與分布會影響晶圓電路圖案(pattern)的製程結果,必需持續監控溶液中粒子的大小及數量,只要發現溶液粒子不符規格,就必需馬上暫停及更換,才能維持產品良率...

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